表面分析受託サービス

ホーム表面分析受託サービス > 不純物分析:ICP-OES(高周波誘導結合プラズマ発光分析)

ICP-OES (高周波誘導結合プラズマ発光分析)

Analytical Resolution versus Detection Limit

ICP-OESの原理

高周波エネルギーにより発生させたアルゴンの高温プラズマの中心部でネブライザーにより溶液試料を注入して発光させる。この光に含まれている試料中の各元素に特有のスペクトル線を分光し、それぞれの強度の測定値から各元素の含有量を定量する。

ICP-OESの原理図

ICP-OESの特徴

  • プラズマの高温度領域で励起されるので、その工程における化学干渉が低く複雑な材料の分析が可能。
  • 微量レベルから主成分に近い高濃度レベルまでの測定が可能。

測定対象試料

  • セラミックス, ガラス, アルミナ, BN(窒化ホウ素), セメントなど
  • 金属, 合金, 貴金属, 鉄鋼, 真鍮など
  • 試薬, 触媒, 工業用水など

ICP-OESによる主成分測定事例

ICP-OESによる主成分測定事例図
Pagetop
お問い合わせ方法
Copyrights (C) 2016 Nano Science Corporation. All Rights Reserved.プライバシーポリシー